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ICPMS加裝氬氧裝置對(duì)分析哪些元素特別有幫助和好處

發(fā)布時(shí)間：2025-07-22       點(diǎn)擊次數(shù)：159
ICP-MS 8900 加裝氬-氧 (Ar-O?) 反應(yīng)氣后，對(duì)下列元素的定量/定性效果明顯——它們要么受多原子離子干擾嚴(yán)重，要么電離效率低、易形成碳沉積，要么需要“質(zhì)量轉(zhuǎn)移”模式才能降到亞-ppt 級(jí)檢出限。
  1. 受 Ar-基多原子離子干擾的元素
    ? ?2Cr ← ??Ar12C?、??Ar1?O?
    ? ??Fe ← ??Ar1?O?
    ? ?1V ← 3?Cl1?O?、3?Cl1?N?
    ? ??As ← ??Ar3?Cl?
    ? ??Se ← ??Ar2?Mg?、??Ar??Ar?
    → O? 反應(yīng)氣可將上述干擾離子轉(zhuǎn)化為更高質(zhì)量的氧化物或氧簇，使 m/z 錯(cuò)開，背景下降 1–2 個(gè)數(shù)量級(jí) 。
  2. 非金屬、低電離能元素
    ? 31P、32S、2?Si、12?I —— 在純 Ar 等離子體中電離效率低；用 O? 質(zhì)量轉(zhuǎn)移生成 PO?、SO?、SiO? 后，靈敏度提高 3–10 倍，檢出限進(jìn)入 10–100 ppt 區(qū)間
  3. 易形成碳沉積的有機(jī)或高碳樣品中的元素
    ? 任何超痕量金屬（例如 Hg、Cd、Pb、Ni、Cu）—— 有機(jī)溶劑、高 TDS 樣品在采樣錐口積碳會(huì)快速降低信號(hào)；加入 5–20 % O? 將碳燒掉，可保持長(zhǎng)期穩(wěn)定性，避免信號(hào)漂移 。
  4. 高純化學(xué)品/半導(dǎo)體雜質(zhì)
    ? 在鹽酸、硫酸、TMAH 等高純?cè)噭┲袦y(cè) V、Cr、Co、Ni、Cu、Zn、Pb 等 9 種金屬，使用 O? 反應(yīng)池可把 BEC（背景等效濃度）降到 <10 ppt，滿足 SEMI 規(guī)范 。

加裝氬氧裝置對(duì)有機(jī)樣品有何好處？
具體好處：
  1. 燒掉碳沉積
    有機(jī)溶劑（甲醇、乙腈、IPA 等）在等離子體裂解為碳微粒，會(huì)堵塞采樣錐、截取錐和離子透鏡。通入 5–20 % O? 后，碳瞬間氧化成 CO/CO? 氣體隨尾氣排出，錐口壽命從幾百小時(shí)延長(zhǎng)到上千小時(shí)，信號(hào)漂移 <5 % 連續(xù) 24 h。
  2. 抑制基質(zhì)抑制
    高有機(jī)相常導(dǎo)致離子化抑制，Ar-O? 模式提高了等離子體溫度與電子密度，對(duì) Na?、K?、NH?? 等基質(zhì)離子去溶更好，使 As、Se、Hg 等易揮發(fā)元素的回收率提高 10–30 %。
  3. 消除有機(jī)多原子干擾
    乙腈產(chǎn)生 ??Ar12C1?N? 會(huì)壓在 ??Zn 上；甲醇產(chǎn)生 12C?1H?? 干擾 2?Al。O? 反應(yīng)氣把這些干擾氧化成高價(jià)氧化物或碎片，質(zhì)量數(shù)錯(cuò)開，背景降低 1–2 個(gè)數(shù)量級(jí)，超痕量 Zn、Al 的檢出限從 ppt 降到亞-ppt。
  4. 直接進(jìn)樣，無(wú)需稀釋
    100 % 甲醇、IPA 或 10 % 甲酸流動(dòng)相可直接霧化，省去“稀釋-消解-趕酸”步驟，節(jié)省 50 % 前處理時(shí)間，特別適合制藥溶劑殘留、脂質(zhì)體、潤(rùn)滑油等有機(jī)基體。
  5. 方法切換零停機(jī)
    8900 的八級(jí)桿反應(yīng)池可在同一序列里自動(dòng)切換 He-模式（通用）與 Ar-O? 模式（有機(jī)），無(wú)需關(guān)機(jī)換錐，一天內(nèi)可跑完水相+有機(jī)相兩類樣品。

    一句話記憶
    有機(jī)樣品+Ar-O? ＝“不積碳、不漂移、不失真”，連續(xù)運(yùn)行幾天靈敏度也穩(wěn)如第1天。“凡是傳統(tǒng)模式下被 ArC/ArO/ArCl 壓得抬不起頭，或者 P/S/Si 靈敏度不夠、樣品又含高有機(jī)/高鹽的元素，裝上 Ar-O? 反應(yīng)氣后，都能一躍進(jìn)入亞-ppt 俱樂部?！?/span>

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